Question

讀“甲、乙兩新工業(yè)區(qū)分布圖”，完成29～30題。

1.下列有關甲、乙新工業(yè)區(qū)的敘述，正確的是（    ）

A．新工業(yè)區(qū)的共同特點之一是知識密集

B．新工業(yè)區(qū)是20世紀50年代以后形成的高新技術工業(yè)區(qū)

C．新工業(yè)區(qū)的共同特點之一是以中小型企業(yè)為主

D．新工業(yè)區(qū)的工業(yè)都以輕工業(yè)為主

2.乙圖新工業(yè)區(qū)發(fā)展條件與我國武漢“光谷”相比較，不同的是(　　)

A．地理位置優(yōu)越

B．軍事訂貨

C．有高等院校，便捷的交通

D．環(huán)境優(yōu)美、氣候宜人

 

Answer 1

【答案】

 

1.A

2.B

【解析】本題考查世界著名的工業(yè)區(qū)。

1.圖示甲表示意大利中部的新興工業(yè)區(qū)和乙表示美國的硅谷，均為新興工業(yè)區(qū)，主導影響因素為知識和技術；故A項正確。B項甲工業(yè)區(qū)不屬于高新技術工業(yè)區(qū)；錯誤。C項乙工業(yè)區(qū)內(nèi)的企業(yè)并非以中小型企業(yè)為主；錯誤。D項乙工業(yè)區(qū)以微電子工業(yè)為主，并非屬于輕工業(yè)；錯誤。

2.其他三項內(nèi)容，我國武漢的“光谷”也有這樣的發(fā)展條件，但美國硅谷的發(fā)展還擁有美國國家機構每年大量的軍事訂貨。